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Meiden純臭氧發生器是液化和儲存臭氧氣體并連續供應高純度臭氧氣體的裝置。由于高純度的臭氧水平,它可以用作半導體工藝中的氧自由基產生源。為了安全起見,本機具有足夠的安全措施。
此外,該單元是與日本國立先進工業科學技術研究所共同開發的。
參數
積蓄處
臭氧反應室數量:2
最大臭氧積蓄量*¹ [cc*²] :32000/裝置 16000/反應室
液體臭氧濃度[%] ? 100
供給處
連續供給能力[sccm]:100*9
最大供給能力[sccm] :300
臭氧氣體濃度[%] : 90
最大供給時間[分]*³ :100
國際安全標準SEMI-S2, UL, NFPA, CE :符合
特征:
將臭氧生成裝置產生的臭氧氣體極度低溫液化后,生成100%濃度臭氧
可以持續供給100%濃度臭氧
安全對策
基于安全裝置設計的考慮,保持高純度?減壓狀態,使臭氧不產生危險反應。
安全設計
• 緊急時的防爆設計
• 停電,異常時通過安全系統控制溫度和壓力。
信賴性
• 停電時、先稀釋臭氧濃度,然后將裝置內殘留臭氧緊急排出。
• 異常發生時可以通過EMO(緊急停止)開關來手動停止裝置。(為防止臭氧爆炸,冷凍機具有持續運行功能)
• 液化反應室收納于真空斷熱的SUS容器中,萬一臭氧發生爆炸也不會造成對外部機械損傷。
• 液態臭氧冷卻裝置具有足夠的容積來容納液態臭氧,減少由震動引起的急速氣化爆炸風險。
標準認證
• 符合國際安全標準(SEMI-S2、UL、NFPA、CE 等)
品質保證
• 由第三方認證機關通過示蹤氣體實驗認證具有防止氣體泄露的安全性。
OER *工藝技術
通過將高濃度臭氧和乙烯混合,成功地生成了大量OH自由基。
裝置構成圖(連續供給類型)
場地 | 類別 | 適用技術 | 預期效果 |
---|---|---|---|
環境 | 水處理 | 純臭氧處理方法 | 消毒,除臭和脫色 |
藥物治療 | 醫療器材 | 純臭氧處理方法 | 滅菌和制藥(有機合成) |
電影 | 與FPD相關 | 新增氣體處理方法 | 觸摸屏等的表面改性和涂膜 |
半導體安裝相關 | 用于FPC等的表面改性和涂膜 | ||
食品相關 | 包裝材料的表面改性 | ||
電池相關 | 太陽能電池等膜的表面改性 | ||
材料 | 成員 | 純臭氧處理方法 | 碳納米管改性和球形硅氧化 |
電池 | 電極片 | 新增氣體處理方法 | 電極部件修改 |
半導體 | 成膜工藝 |
•純臭氧處理方法 •UV臭氧CVD處理方法 •添加氣體處理方法 |
氧化,CVD,絕緣膜改性,灰化和干洗 |
平版印刷 | 光掩模修改,精密零件清潔和EUVL | ||
先進的系統 | 微機電系統 |
•純臭氧處理方法 •添加氣體處理方法 |
灰化和干洗 |
納米壓印 | 干洗壓模 | ||
微加工相關 | 高溫超導膜和分子束外延(MBE) | ||
印刷電子 | 印刷步驟前后的表面改性和涂層 |
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